アブストラクト（20巻3号：神奈川歯学）

神奈川歯学

Japanese

Title　： 象牙質知覚過敏症に対するフッ素イオン導入法の基礎的研究
Subtitle　： 神奈川歯科大学大学院歯学研究科博士論文 内容および審査の要旨
Authors　： 長谷徹
Authors（kana）　： ながたにとおる
Organization　：
Journal　： 神奈川歯学
Volume　： 20
Number　： 3
Page　： 417-418
Year/Month　： 1985 / 12
Article　： 報告
Publisher　： 神奈川歯科大学学会
Abstract　： 「論文内容の要旨」フッ素イオン導入法に関する基礎的研究として, イオン導入を施した象牙質内フッ素分布状態の変化ならびにフッ素象牙質通過性について検討を行った. さらに, フッ素イオン導入法が歯髄に及ぼす影響について, ヒト上下顎第1小臼歯を用いて病理組織学的検索を試みた. 象牙質内フッ素濃度の変化については抜去歯6歯を用い, 2% NaFイオン導入を施した窩底象牙質をマイクロラジオグラムならびにEPMAにより検討を行った. その結果, マイクロラジオグラム上では変化が見られなかったが, EPMAにより1.0mA分のフッ素イオン導入を行うことで窩底より約350μmの深さまでFKα線の鋭いピークが存在し, しかも歯髄側に至るまで全体的にそのレベルが上昇していた. この現象は通電量を5.0mA分とした場合には, なお一層顕著となった. 以上のことより, 臨床で通常使用される程度のフッ素イオン導入により, フッ素は象牙質の深部まで速やかに浸透し, しかもその一部は髄窩壁まで達することが明らかとなった.
Practice　： 歯科学
Keywords　：